本報訊 近日，三星表示，已在其最新3D NAND的光刻工藝中減少了厚光刻膠（以下簡稱“PR”）的使用量，從而大幅節(jié)省了成本。

　　三星表示，為了提高NAND生產效率并降低成本，通過采用兩項關鍵創(chuàng)新技術減少了光刻膠的使用量。首先，三星優(yōu)化了生產過程中的每分鐘轉數和涂布機轉速，在保持最佳蝕刻條件的同時，減少了PR的使用，在保持涂層質量的同時大幅節(jié)省了成本。其次，PR應用后的蝕刻工藝已經得到改進，盡管材料使用量減少，但仍能獲得同等或更優(yōu)的結果。據了解，三星已將用于3D NAND生產的PR使用量減少了一半。

　　但三星此舉也意味著東進半導體將面臨訂單減少的問題。據悉，東進半導體光刻膠業(yè)務每年的營收約為2500億韓元收入，其中60%來自于三星。

　　光刻膠被譽為“微納世界的畫家”，在半導體制造中，光刻膠要先被涂覆在硅片或其他襯底上，然后通過光照和后續(xù)蝕刻等處理，實現微細圖案的制作。

　　當前，全球光刻膠市場幾乎被來自日本的JSR、東京應化、信越化學、住友化學等企業(yè)所瓜分，也讓日本在全球半導體制造鏈中占據著舉足輕重的地位，這也讓日本獲得了主動權。日本政府曾多次限制光刻膠等半導體材料的出口，其中，影響最深遠的就是2019年7月，日本政府宣布對出口韓國的半導體工業(yè)材料加強審查和管控，并將韓國排除在貿易“白色清單”以外。在2019年，韓國光刻膠對日本的依賴度為80%。但韓國政府在被限制時并沒有坐以待斃，立刻牽頭一口氣投入了6萬億韓元的預算，鼓勵韓國的材料企業(yè)加快研發(fā)進度。2022年12月，這筆投入終于獲得了回報，韓國三星電子公司宣布，將東進半導體研發(fā)的EUV光刻膠成功應用于其芯片工藝生產線。東進半導體成為韓國第一家將EUV光刻膠本土化至量產水平的公司。（文 編）